К середине этого десятилетия они намерены создать технологию следующего поколения, подходящую для норм 2 нм и менее

ак стало известно агентству Nikkei, три ведущих японских поставщика оборудования для полупроводниковой промышленности объединят усилия в рамках поддерживаемых правительством усилий по разработке передовых технологий производства микросхем.

Инициатива объединяет компанию Canon, производящую оборудование для фотолитографии, ведущего японского поставщика оборудования для производства микросхем Tokyo Electron и компанию Screen Semiconductor Solutions, которая производит машины для нанесения покрытий и очистки пластин.

Троица планирует сотрудничать с японским национальным институтом передовых промышленных наук и технологий и министерством экономики, торговли и промышленности (METI), которое предоставит финансирование в размере около 386 млн долларов.

По словам источников, знакомых с вопросом, усилия, предпринимаемые в связи с попытками Японии вернуть утраченные позиции в мировой гонке полупроводников, также будут включать сотрудничество с такими международными игроками, как TSMC и Intel.

Проект направлен на создание к середине десятилетия технологии следующего поколения, подходящей для норм 2 нм и менее. Итогом работ должен стать прототип производственной линии, включающей оборудования для литографии, травления, очистки и других операций.

Японские компании, такие как NEC, Toshiba и Hitachi, были лидерами в области полупроводникового производства в 1980-х годах, но со временем утратили свое преимущество, когда на передний план вышла модель разделения производителей на бесфабричных проектировщиков и контрактных производителей. Вместе с тем, японские компании по-прежнему занимают высокие позиции на мировом рынке как поставщики оборудования и материалов для производства микросхем.

Источник: IXBT.com